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2006년 제2차 해외출원비용보조사업 신청접수 공고
관 리 자 06-06-19
1. 사업목적

내국인이 보유한 특허, 실용신안, 디자인등록의 해외출원을 장려하기 위하여 해외출원에 소요되는 실제비용의 일부를 지원
 

2. 사업개요

가. 관련근거 : 발명장려사업추진요령(특허청고시 제2006-5호)

나. 신청자격

1) 내국인(법인)으로서 해외에 특허, 실용신안, 디자인등록을 해외출원한 개인, 중소기업, 대학

2) 직무상 해외에 특허, 실용신안, 디자인등록을 해외출원한 이공계 정부출연연구소 및 국공립연구소
 

※ 신청대상은 신청일 기준 3년이내에 송금한 출원비용으로 하며,

동일인이 동일국가에 출원한 동일발명에 대해서는 1회만 지급함


다. 지원내용

① 지원대상자로 선정시 출원건별로 300만원 한도내에서 실제비용을 지원(국내 변리사에 대한 사건수임료, 등록비용 등은 지원대상에서 제외)

※ 핵심원천기술로 선정된 경우에도 출원건당 지원금액 한도는 동일함

② 신청인 1인에 대한 지원건수는

- 개인, 중소기업은 연간 3건이내(특허청장이 인정하는 우수한 발명인 경우에는 추가로 2건이내 지원 가능)

- 대학, 연구기관은 연간 10건이내

※ 동일기술로 다수국가 출원시 지원건수 한도내에서 지원이 가능함

③ PCT를 통한 해외출원일 경우에는 국제단계에서는 지급하지 않고,

지정국 국내단계가 진행되었을 경우에 국제단계 비용까지 소급하여 지급

※ 지정국(미국, 중국, 일본 등) 국내단계(각국 특허청에서 출원번호가 부여된 상태)에 진입된 경우에 신청이 가능함

※ 핵심원천기술로 선정된 경우에는 국제단계에서도 지급이 가능함


3. 처리절차 및 심의기준

가. 처리절차

신청서 접수
↓
기술성평가 실시
↓
선정위원회 개최 ↔ 심사위원회 개최
(한국발명진흥회 운영 (핵심기술) (특허청 운영
/지원대상자 결정) /핵심원천기술 결정)

↓(일반기술)

결과통보
↓
보조금 지급
↓
사후관리


나. 심의기준 

① 신청인의 자격

② 특허등록의 가능성

③ 특허기술의 우수성

④ 특허기술의 활용성

※ 대한민국특허기술대전 또는 특허기술상 등 특허청이 주최하는 발명 관련 행사에서 수상한 우수발명, 여성 및 장애인의 발명에 대하여는 지원대상자 선정에서 우대 가능


★ 심사위원회는 다음 각호의 사항을 동시에 모두 고려하여 핵심원천기술을 심의, 선정함

1) 발명자(또는 공동발명자의 경우 발명자의 일부)가 세계최고수준의 과학자일 것

2) 기술성이 매우 고도하여 세계적인 발명이거나 시장가치가 매우 높아 국가경제에 크게 기여한 또는 기여할 것으로 기대되는 발명일 것

3) 국가가 전략적 차원에서 해외출원비용을 특별히 지원할 필요가 있는 발명일 것
 

4. 신청기간 및 신청방법

가. 신청기간(3차는 9월초 게재 예정)

① 신청기간(2차) : ‘06년6월1일 ~ 6월30일

※ 핵심원천기술의 경우 신청기간에 제한없이 신청 가능. 단, 보조금 지원시기는 동일  

② 서류검토 및 보완(2차) : 6월 예정

③ 기술성 평가(2차) : 7월 예정

④ 심의위원회 개최 및 지원대상자 선정(2차) : 8월 예정

⑤ 보조금 지원(2차) : 8월말 예정


나. 신청방법

① 신청서를 작성하여 구비서류와 함께 접수기일내에 우편 또는 직접접수

※ 구비서류 미비시 신청접수 불가, 우편물은 해당일 도착분에 한함

※ 신청서 양식 다운로드 : 한국발명진흥회 홈페이지( www.kipa.org) →

사업공고 → 특허기술사업화지원공고에서 다운로드

② 온라인등록을 완료하시면 접수증이 발급됩니다. <온라인 신청 바로가기>
 

※ 온라인등록은 한국발명진흥회 홈페이지( www.kipa.org) → ’통합민원 온라인 신청‘

→ 회원가입(무료) → 통합민원신청 → 해외출원비용보조에서 하시기 바랍니다.


5. 신청시 유의사항

가. 동일인이 동일국가에 출원한 동일발명으로 이미 신청하여 수혜를 받은 건은 신청 불가